Corpus ID: 92756283

Physicochimie de surface de radicaux fluorocarbones assistee par bombardement d'ions ou d'electrons : simulation experimentale de l'interaction plasma-surface

@inproceedings{Rouger1992PhysicochimieDS,
  title={Physicochimie de surface de radicaux fluorocarbones assistee par bombardement d'ions ou d'electrons : simulation experimentale de l'interaction plasma-surface},
  author={I. Rouger},
  year={1992}
}
La gravure plasma rie joue un role important dans le domaine de la microelectronique. Les mecanismes qui la gouvernent ne sont pas actuellement completement elucides. Afin de contribuer a l'amelioration de cette connaissance, un reacteur original, fonde sur l'exploitation de faisceaux de particules, est utilise dans le but de simuler experimentalement les interactions et les effets des synergies des differentes particules presentes dans un plasma avec les substrats. Les degats ou les… Expand