• Published 2006

전자 재료용 Cu-Ni-Si-Co계 구리합금 및 그 제조 방법

@inproceedings{2006,
  title={전자 재료용 Cu-Ni-Si-Co계 구리합금 및 그 제조 방법},
  author={히로시 구와가키},
  year={2006}
}
조대한 제 2 상 입자의 생성이 억제된 Cu-Ni-Si-Co계 합금을 제공한다. Cu-Ni-Si-Co계 합금의 제조 공정에 있어서, (1) 열간 압연은 950 ℃ ~ 1050 ℃ 에서 1 시간 이상 가열 후에 실시하고, 열간 압연 종료시의 온도를 850 ℃ 이상으로 하고 15 ℃/s 이상으로 냉각시키고, 또한, (2) 용체화 처리는 850 ℃ ~ 1050 ℃ 에서 실시하고 15 ℃/s 이상으로 냉각시키는 것. 본 발명에 의하면 Ni:1.0 ~ 2.5 질량%, Co:0.5 ~ 2.5 질량%, Si:0.30 ~ 1.20 질량% 를 함유하고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 전자 재료용 구리 합금으로서, 입경이 10 ㎛ 를 초과하는 제 2 상 입자가 존재하지 않고, 입경이 5 ㎛ ~ 10 ㎛ 인 제 2 상 입자가 압연 방향에 평행한 단면에서 50 개/㎟ 이하인 전자 재료용 구리 합금이 제공된다. Cu-Ni-Si-Co계 구리 합금