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近年,超LSIや 新機 能デバ イ スの開発,シ ソ クロ ト ロ ン放 射(SOR)光 ・核融 合な ど最 先端産 業 の急 速 な 進歩 とともに,従 来の超 高真空技術 を越 えた極高真空技 術 の確 立が強 く要 請 され てい る1).こ の極 高真空( P< 10-10Pa)の 作成には,構 成 材料か らのガス放 出率, 特 にH2の ガス放 出率を低減す るこ とが重 要な問題(More)