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  • 프렌치이안디, 휴웨트제임스
  • Materials Science
  • 2003 (First Published: 13 June 2003)
  • 마스크(12)는 하프톤 층(16) 및 차광층(20)을 포함한다. 하프톤 층(16)은 실리콘 풍유 실리콘 질화물 SiN X :H이다. x는 0 내지 1의 값이고, 바람직하게는 0.2 내지 0.6으로, 광학 대역 갭은 2.1eV 내지 2,5eV이다. 마스크(12)가 사용될 때 포토레지스트의 제거는 밴드 갭에 따라 달라지며, 두께에는 크게 의존하지 않아서,Continue Reading